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光亮退火爐現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域
光亮退火爐現(xiàn)在廣泛應(yīng)用于工業(yè)行業(yè)，是一種非常重要的設(shè)備。光亮退火爐根據(jù)不同的工作環(huán)境有多種分類。退火爐是半導(dǎo)體器件制造中使用的工藝，包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響它們的電特性。熱處理是為不同的效果而設(shè)計(jì)的。晶片可以被加熱以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或晶片襯底界面，密集沉積薄膜，改變生長(zhǎng)薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，將摻雜劑從一個(gè)薄膜移動(dòng)或轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜，或者從薄膜進(jìn)入晶片襯底。
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